Вакуумные напылительные системы
Термическое оборудование
Оборудование для напылительных систем
Восстановление б/у вакуумных систем
Проектирование и создание вакуумных систем
Напыление покрытий вакуумными методами

Контакты компании РОБВАК
Тел.: +7 (495) 966 28 14
Email: request@robvac.com

Американский производитель ионных источников, компания Kaufman & Robinson, является старейшей и наиболее уважаемой компанией по производству ионных источников (ионных пушек) для вакуумных систем. Компания выпускает самую широкую линейку ионных источинков, как по типам ионных источников, так и по размерам. Работая в данной области более 30 лет, компания имеет самый большой опыт в применении своих ионных источников в самых разных областях.

Ионные источники - иноные пушкиВ России оборудование компании Kaufman & Robinson представляет компания РОБВАК, которая имеет обученных сервис-инженеров, а также грамотных специалистов, имеющих образование и опыт работы в области создания ионных источников.

 

Благодаря высокой надежности и стабильности параметров работы ионных источников компании Kaufman & Robinson, сегодня именно эти источники выбирают большинство производителей вакуумных напылительных систем или вакуумных систем для травления подложек. Несмотря на то, что термин ионный источник является более академичным, и на наш взгляд, более правильным по сравнению с термином ионная пушка, который также широко используется техническими специалистами, в данном разделе мы будем использовать оба этих термина. 

Компания Kaufman & Robinson производит следующие серии ионных источников и оборудования для ионно-плазменных технологий:

БЕССЕТОЧНЫЕ ИОННЫЕ ИСТОЧНИКИ  END-HALL СЕРИИ еНБЕССЕТОЧНЫЕ ИОННЫЕ ИСТОЧНИКИ END-HALL СЕРИИ еН

Ионные источники серии еН будут идеальным выбором, где требуется высокая плотность ионного пучка и небольшие энергии ионов в пучке. Высокая плотность пучка обеспечит качественное ионное ассистирование даже в процессах с высокой скоростью вакуумного напыления, в то время как низкая энергетичность ионов исключит разрушение подложки или напыляемого слоя.

СЕТОЧНЫЕ ИОННЫЕ ИСТОЧНИКИ СЕРИИ RFICP

Сеточные ионные источники серии RFICP с высокочастотным возбуждением плазменного разряда обеспечивают прецизионное управление вытягиваемого ионного пучка. Данные ионные источники будут идеальным выбором, где требуется высокая плотность ионного пучка (благодаря высокой плотности высокочастотного плазменного разряда), прецизионная форма ионного пучка, точный контроль энергии ионов, генерируемых ионным источником, а также высокая чистота ионного пучка, обеспечиваемая отсутствием нитей накаливания в конструкции ионного источника.

СЕТОЧНЫЕ ИОННЫЕ ИСТОЧНИКИ СЕРИИ KDC

Сеточные ионные источники серии KDC представляют собой улучшенную и оптимизированную версию ионного источника Кауфмана (в данном случае название «ионный источник Кауфмана» - общепринятое название ионных источников определенной конструкции, в название которого легла фамилия одного из основателей компании Kaufman and Robinson. Данные сеточные ионные источники используются во традиционных вакуумных технологических процессах, где требуются стабильный качественных ионный пучок с высокой регулируемостью параметров ионного пучка ионного источника.

БЛОКИ ПИТАНИЯ И КОНТРОЛЛЕРЫ ДЛЯ ПИТАНИЯ И УПРАВЛЕНИЯ ИОННЫМИ ИСТОЧНИКАМИ

Блоки питания и управления компании Kaufman and Robinson предназначены для обеспечения стабильной работы ионных, плазменных и электронных источников в сложных условиях динамической нагрузки плазменных процессов.

ИСТОЧНИКИ ЭЛЕКТРОНОВ

Источники электронов компании Кауфман энд Робинсон имеют низкую энергию и большую силу тока. Как правило, они применяются как нейтрализаторы объёмного заряда ионного пучка или катоды для ионно-плазменных устройств.

ИОННАЯ ОПТИКА СЕРИИ OPTIBEAM

Источники ионов компании Кауфман энд Робинсон используют много-апертурные решётки, изготовленные из тугоплавких металлов или графита. Решётки могут быть плоскими или выпуклыми. Форма решётки и структура (размер, расположение) отверстий на решётке формируют траектории ионов, вылетающих из ионной пушки. Объединение всех траекторий ионов создаёт форму ионного пучка, которая характеризуется профилем ионного тока ионного пучка.